Новости науки и техники

[Touring]

Планар сейчас делает ровно то же, что сделала ASML в 93-м, взяв видимо тот же Zeiss S-Planar 5/0.60, может быть его версию свежее, на это указывает похожий внешний вид оптической колонны, уменьшение 5х, NA в 0.60 и максимальный размер проецируемого изображения чипа в 22х22 мм.

Производители оборудования до сих пор не бросили 365 нм, так как оборудование и материалы под эту длину волны давно проработаны и наименее дорогие. В 2000-м году Zeiss поставил ASML доработанный i-line объектив, названный Starlith 400, уже с уменьшением 4x под применение в сканере, с NA = 0.65, с разрешением 200 нм, он на фото ниже.

Zeiss попутно поработал с осветителем, и через это снизил k1, поэтому, с тем же 365 нм i-line источником ASML вышла в 2000-м году в серии на 220 нм минимального элемента, снизив ошибку наложения 5500-й платформы до <30 нм.

220 нм = 0.39 (k1) x 365 нм / 0.65 (NA)

После 2000-го, с переходом на новую Twinscan платформу c двумя столиками кремниевых пластин с двухходовыми линейно-магнитолевитационными приводами повышенной точности, таким же приводом сканирующего модуля фотошаблона, и повышенной точностью интерферометров, ASML снизила ошибку наложения до <20 нм.

Такие i-line системы с ртутными лампами производятся до сих пор, как упоминалось, с конца 90-х это уже не степперы а более технологически сложные сканеры, за счёт чего они имеют повышенный размер проецируемого прямоугольника чипа, в 26х33 мм, с тех пор к этому добавилась производительность Twinscan XT платформы середины 00-х, доведённая до выхода в 245 пластин на 300 мм в час.

Для массы приложений размера элемента в 220-350 нм при чипе до 26х33 мм более чем достаточно, ошибка наложения платформы в 20 нм даёт для этого размера элемента отличный выход годных, поэтому минимальную стоимость микросхемы, на стоимость работают и 300 мм пластины.

 

[Sergey-nn]

Touring, значит говорите для российской литографии взяли объектив Цейс? И это в условиях действующих санкций и штучном производстве таковых объективов? сильны Вы в фантазиях, однако!


ЗЫ они такую оптику сейчас вообще выпускают? Для кого? Неужели по спецзаказу из РФ???

 

[Sergey-nn]

«Мы достигли рубежа "двойных 100 миллионов градусов" и перешли в фазу горящей плазмы». Китайский «Хуанлю-3» разогрел плазму до рекордных температур

Китайские учёные сделали важный шаг к созданию управляемого термоядерного синтеза: их установка «Хуанлю-3» (HL-3) разогрела плазму до рекордных температур — 117 млн градусов Цельсия для ионов и 160 млн градусов Цельсия для электронов.

www.ixbt.com

 

[Touring]

Touring, значит говорите для российской литографии взяли объектив Цейс? И это в условиях действующих санкций и штучном производстве таковых объективов? сильны Вы в фантазиях, однако! ЗЫ они такую оптику сейчас вообще выпускают? Для кого? Неужели по спецзаказу из РФ???

Я сказал что то что на фото похоже на Zeiss, а что это на деле, знают в Планаре.

Zeiss выпускает для современных i-line установок от ASML объективы с NA = 0.65, те старые 90-х и начала 00-х с NA = 0.60 давно нет. Купить в Азии б. у. с установки 90-х для создания своей экспериментальной разработки не большая проблема.

В конечном итоге и этого не надо, объективы Zeiss под i-line с NA = 0.60 стоят на машинах ASML начала 00-х которые есть в России, в том числе в НИИСИ (5500/250С).

 

[Touring]

Сделал пару картинок как с годами менялся размер проекции, чипа, и рабочее разрешение.

1. Сканеры.

Сканер с g-line ртутной лампы это 80-е годы, потом с этой длину волны ушли. Планар с его ЭМ-584 по размеру изображения и разрешению был на уровне японского 1980-го года, с ЭМ-5084 на уровне 1987-го (но не по точности наложения и не по производительности).

i-line началась с середины 80-х, и пришла к пределу своего развития в 1999-м. Планар с "новым русским 350 нм литографом" пытается сделать именно i-line машину, по размеру изображения и разрешению (но не по точности наложения) это японский 1994-й год в серии, учитывая что у него это опытная разработка, это самое начало японских 1990-х.

Лазерная KrF стартовала в серии в 1988-м, когда Komatsu поставила Nikon первые такие источники в достаточном объёме. Но, достаточно долго создавали под неё резист и метрологию, поэтому массовое производство на степперах с ним началось только в 1994-м году, а по настоящему массовое только к концу 90-х, и на сканерах, когда Cymer и Gigaphoton (Komatsu) начали массовые поставки промышленных источников, оптимизированных по отдаче, отказоустойчивости и стоимости использования.

NA объективов степперов увеличилась с 0.30 на старте в начале 80-х, до 0.65 в поздних вариантах, следом росли их размеры и масса (с 20 до более чем 200 кг).

2. Сканеры.

Основная идея их в том чтобы получить прямоугольник размера 26х33 мм (который в случае степпера должен быть вписан в круг диаметра 42.4 мм), сохранив объектив дающий круг 28.3 мм, как у степперов начала 90-х. Реализовано это через сканирование фотошаблона с 4-кратной скоростью по отношению к скорости перемещения пластины, при котором формирование на пластине прямоугольника шириной в 33 мм осуществляется полосой сканирования шириной в 8-10 мм (и высотой в 26 мм, за счёт своей узости максимально полно использующей высоту 28.3 мм круга).

Первый массовый сканер это Nikon и 1995-й год, у ASML это 1997-й, к 2000-му году данная технология стала основной. Уменьшение размера круга проецируемого изображения с переходом на сканеры способствовало дальнейшему увеличению NA объективов, с 0.60 до 0.93 в сухом варианте и до 1.35 в варианте водной иммерсии, масса их при этом увеличилась с 200 до немалых 1,080 кг. Рост точности обработки линз дал увеличение разрешения объективов, как и снижение величины параметра процесса k1, вместе с увеличением их NA это дало снижение размера минимального элемента.

Работой над повышением скорости приводов привела к увеличению производительности в пластинах в час, одновременно было реализовано снижение ошибки наложения, что привело к увеличению процента выхода годных. Всё вместе дало более дешёвый транзистор чипа заданной производительности. Плата за сканерную технологию, не только более сложные объектив и осветитель, но и дополнительный привод фотошаблона, и более скоростная и точная механика обоих приводов, фотошаблона и пластины. Что тому же Планару пока недоступно.

Сканерная i-line уже к 2000-му году подошла к пределу по минимальному размеру элемента, но в силу стоимости всей экосистемы она актуальна до сих пор. Лазерная KrF подошла к 2002-му, ArF к 2004-му. Естественным развитием последней стала водная иммерсия, она подошла к пределу в 2008-м.

Планару иммерсия недоступна, она не получилась даже у Canon, он попробовал выпустить машины с ней в 2000-х, но вынужден был отозвать их все, так как они не работали как заявлено. Позднее Canon ушёл и от выпуска ArF варианта без иммерсии, сконцентрировавшись на KrF и i-line, в ArF семгенте рынка сформировалась дуополия ASML и Nikon.

EUV сканер на 13.5 нм не освоил уже Nikon, в части зеркал, к тому же, японская Gigaphoton (Komatsu) не сумела промасштабировать по мощности LPP источник излучения для него, чтобы дать приемлемую производительность, хотя Mitsubishi поставила ей для реализации этого достаточно мощную усилительную часть CO2 лазера, получившегося точно не хуже чем тот что Trumpf поставила Cymer.

В итоге, на рынке EUV сканеров сформировалась "естественная" монополия, они выпускаются только ASML, используя пул ключевых поставщиков в виде Zeiss, Cymer и Trumpf. Эта технология пока что находится в развитии, стартовав в 2017-м с NA зеркальной системы в 0.33, и с 13 нм минимального элемента, в 2019-м с такими машинами начали массовое производство на 5 нм ноде. В этом году начались поставки EUV машин с NA 0.55 (High-NA), и с 8 нм минимального элемента, для чего пришлось переработать очень многое, в ближайшие годы начнётся массовое производство на них 1.5-2 нм нод. Проектируются установки на NA>0.60 (Hyper-NA), ещё более сложные.

 

[marata]

Очень показательна нежная попытка описания дорожной карты по литографии на 7 минуте

 

[SDA]

К 2030 году должен появиться техпроцесс... видать, надеятся, что ишак выиграет гонку