SDA
Старожил
Тема интересная.
Но надо бы в отдельную ветку из Новостей перенести.
Новости науки и техники
Но надо бы в отдельную ветку из Новостей перенести.
Ту-155
Бывший
"Легкость необыкновенная в мыслях "(с)Н.В.Гоголь у Приколиста.
Как у Стренжера нашего калифорнийского )))
@ау
Touring
Старожил
Я не могу переместить, давайте попросим у админа это сделать?
Mavr
редко летающий
Напишите, с какого сообщения нужно отделить и название новой ветки
Ту-155
Бывший
Может быть начиная отсюда?
Новости науки и техники
Фотография - не настолько плохо изученная область, чтобы надеяться на чудо. Не соглашусь. Фотография и наука, и искусство. Значит, на чудо надеяться можно.
aviaforum.ru
Это только моё мнение.
Mavr
редко летающий
Ну тут просто так не выделить: пересечение плотное, необходимо и редактирование постов плюс их деление...
Вот предлагаю ничего не трогать, оставить как есть
Вот предлагаю ничего не трогать, оставить как есть
миг-21р
Уралец
мне кажется, что комментарии Touring, нельзя отрывать от новости про отечественный литограф. Там же масса перекрестных ссылок и комментариев на комментарии.Может быть начиная отсюда?
И только постинги ув. Touring, остальное для истории неинтересно.Новости науки и техники
Фотография - не настолько плохо изученная область, чтобы надеяться на чудо. Не соглашусь. Фотография и наука, и искусство. Значит, на чудо надеяться можно.
Это только моё мнение.
Приколист
Местный
А с какого перепугу новость про отечественный литограф должна оказаться в исторической ветке?
Touring
Старожил
Вот с этого:
Новости науки и техники
Фотография - не настолько плохо изученная область, чтобы надеяться на чудо. Не соглашусь. Фотография и наука, и искусство. Значит, на чудо надеяться можно.
aviaforum.ru
назвать предлагаю "Фотолитография, актуальные разработки в СНГ и Китае".
Спасибо.
Приколист
Местный
В Вашем изложении "история развития фотолитографии на заре становления оной"
В предложенном ЖЕ вами смысловом контексте названия, все новости (которые вроде как должны попадать в эту ветку) утонут в Ваших "сказаньях старины глубокой"
Ту-155
Бывший
"Завидовать надо молча"В Вашем изложении "история развития фотолитографии на заре становления оной"
В предложенном ЖЕ вами смысловом контексте названия, все новости (которые вроде как должны попадать в эту ветку) утонут в Ваших "сказаньях старины глубокой"
Kit.
Старожил
Не факт. Ветка называется "новости науки и техники", а не "новости зари становления литографии в отдельно взятой стране".
Sergey-nn
циник в розовых очках
Turbotech, Safran and Air Liquide validate feasibility of liquid hydrogen-fueled turbine for light aviation
Sassenage, France, January 13, 2025 Turbotech, Safran and Air Liquide have successfully ground tested the first liquid hydrogen-fueled gas turbine engine for the light aviation market at Air Liquid...
www.safran-group.com
Последнее редактирование:
Touring
Старожил
Планаровский степпер на 350 нм, его проекционный объектив показали на фото.
Touring
Старожил
Проекционную оптику такого назначения и класса в мире могут делать три фирмы, немецкий Zeiss, японские Nikon и Canon, и, при некоторых усилиях по восстановлению проиводства, американская Tropel (принадлежащая Corning). Corning к слову с 1992-го поставляет Zeiss заготовки для линз.
SDA
Старожил
Он
На стенах были плакаты про 350 нм
ПЛАНАР был представлен на прошедшей Экспоэлектронике.
На стенах были плакаты про 350 нм
Sergey-nn
циник в розовых очках
Это вы всерьёз про 350 нм?
Touring
Старожил
Советский "задел" позволил Планару в начале 2000-х годов выйти на 800 нм минимального элемента, используя объектив Бинар-34 с уменьшением 5x, на 404 нм рабочих (h-line ртутной лампы), с разрешением около 700 нм. Достигли для него NA = 0.28, имея при этом более-менее приемлемый максимальный размер проецируемого изображения чипа, в 16х16 мм.
800 нм = 0.55 (k1) x 404 нм / 0.28 (NA)
350 нм минимального элемента у Планара были заявлены с начала 2010-х годов, но вот только с максимальным размером проецируемого изображения всего в 3.2х3.2 мм. Потому что только с подобным итоговым размером изображения удавалось сделать объектив Бинар-40, на 355 нм лазера, с разрешающей способностью в 350 нм, выйдя на NA = 0.61 при заданных его размерах.
350 нм = 0.60 (k1) x 355 нм / 0.61 (NA)
Опять же, выбор 355 нм лазера это экзотика, обычно идут с 365 нм ртутной лампы (i-line), так как под эту длину волны в отрасли уже давно всё создано и отработано. С лазером идут сразу на 248 нм, KrF, под неё тоже всё создано.
Без выхода на значение NA объектива 0.60 не достичь 350 нм, например если взять NA = 0.28 как у Бинар-34, то с 355 нм источником минимальный элемент будет в районе 800 нм.
760 нм = 0.60 (k1) x 355 нм / 0.28 (NA)
Последнее редактирование:
Touring
Старожил
Для справки, в 93-м году Zeiss поставила ASML объектив S-Planar 5/0.60 с с уменьшением 5x и достигнутым NA = 0.60, с разрешением 350 нм, и размером проецируемого изображения в 22х22 мм, он показан на фото ниже.
Достижение Zeiss значения NA = 0.60 было ключевой вещью, поэтому у ASML вышло в том же году создать с 365 нм лампой-источником (i-line) степпер на 400 нм минимального воспроизводимого элемента, c ошибкой наложения <70 нм, нужной для приемлемого выхода годных, что в частности позволила ей новая 5500-я платформа, лучшая развязка её измерительной части по вибрациям и температурным отклонениям, и переработанные, менее инерционные линейные приводы столика пластины.
400 нм = 0.66 (k1) x 365 нм / 0.60 (NA)
Так как Zeiss поставлял (и до сих пор поставляет) ASML не только объектив, но и осветитель, и оптическую часть источника, он в начале-середине 90-х поработал с ними, и через это снизил k1, вдобавок улучшил разрешение объектива до 320 нм, в итоге к 97-му году с тем же источником ASML вышла в серии на 350 нм минимального элемента, c ошибкой наложения <50 нм, над чем поработала она сама, с платформой.
350 нм = 0.58 (k1) x 365 нм / 0.60 (NA)
Zeiss ещё поработал с осветителем, и через это со снижением k1, улучшил разрешение объектива до 250 нм, благодаря чему к 99-му с тем же источником ASML вышла в серии на 280 нм, снизив попутно ошибку наложения 5500-й платформы до <40 нм.
280 нм = 0.46 (k1) x 365 нм / 0.60 (NA)
Достижение Zeiss значения NA = 0.60 было ключевой вещью, поэтому у ASML вышло в том же году создать с 365 нм лампой-источником (i-line) степпер на 400 нм минимального воспроизводимого элемента, c ошибкой наложения <70 нм, нужной для приемлемого выхода годных, что в частности позволила ей новая 5500-я платформа, лучшая развязка её измерительной части по вибрациям и температурным отклонениям, и переработанные, менее инерционные линейные приводы столика пластины.
400 нм = 0.66 (k1) x 365 нм / 0.60 (NA)
Так как Zeiss поставлял (и до сих пор поставляет) ASML не только объектив, но и осветитель, и оптическую часть источника, он в начале-середине 90-х поработал с ними, и через это снизил k1, вдобавок улучшил разрешение объектива до 320 нм, в итоге к 97-му году с тем же источником ASML вышла в серии на 350 нм минимального элемента, c ошибкой наложения <50 нм, над чем поработала она сама, с платформой.
350 нм = 0.58 (k1) x 365 нм / 0.60 (NA)
Zeiss ещё поработал с осветителем, и через это со снижением k1, улучшил разрешение объектива до 250 нм, благодаря чему к 99-му с тем же источником ASML вышла в серии на 280 нм, снизив попутно ошибку наложения 5500-й платформы до <40 нм.
280 нм = 0.46 (k1) x 365 нм / 0.60 (NA)
Последнее редактирование: